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公司新闻
瑞驰拓维参加中国颗粒学会年会并参展
四川瑞驰拓维机械制造有限公司2010-09-16点击1807次
2010年8月16日,“中国颗粒学会第七届(2010年)学术年会暨海峡两岸颗粒技术研讨会”在西安市陕西宾馆隆重开幕。北京瑞驰拓维科技有限公司参加本次年会,并进行了产品展示。
在会上,北京瑞驰拓维科技有限公司董事长冯平仓博士做了题目为“超细,超硬,超纯 粉体制备设备成功开发及工艺 设计”的精彩报告,他表示:“传统超细研磨设备在加工超细,超硬,超纯【三超】物料时碰到的技术难题有三个;磨不细、 分不离、 纯不够。针对这三个难题,瑞驰拓维公司研究人员开发了瑞驰HDM系列超细研磨设备。该研磨设备质量优势明显:根据目前研磨设备使用中存在的问题,如研磨内筒金属浇注件磨损,金属污染,进出料法兰包覆脱落,排料口筛网磨损,分离网漏珠,磨盘老化等进行了约 15项 技术改进,新开发的研磨设备质量超过原进口设备并批量出口国外;设备主要供应商采用国际知名厂家(西门子电机,ABB或施耐德电器元件,博格曼机械密封,美国仪表表,日本耐磨材料);主要部件如主轴,轴承座,筒体,磨盘 采用专用数控机床加工,精度高于进口设备,设备运行平稳性,磨损件寿命均有很大提高。”
展示会上,瑞驰拓维带来了Mini- Easy纳米超细研磨设备。该设备用于新产品开发,实验小批量生产等。设备采用积木式结构原理,生产过程参数可调节,设备操作触摸屏,实验结果终端计算机输出。所有与主机配套部分均集成在操作面板内,真正做到了交钥匙工程。与所加工产品接触的部件采用特殊材质,双端面机械密封,排除了产品在加工过程中的污染因素。设备可满足美国FDA和GMP认证规范。该设备主要用于生物制药,细胞破碎,抗生素,疫苗,电子产品:MLCC(多层电容器),CMP(芯片用化学机械抛光液),ITO粉体(铟锌氧化物粉体),喷绘油墨, 胶片,化妆品,功能颜料,碳纳米管分散研磨。”
下图: 展览现场
下图: 展览现场